宝鸡宏晟拓铬铝硅靶 铬铝靶 钛铝靶 异型靶材 有色金属合金靶 专业生产溅射靶材,主营铬靶材,钛铝靶,铬铝靶,钛硅靶,钼合金,硅铝靶,镍铬靶,多晶硅及蒸发膜料等。 溅射是薄膜淀积到基板上的主要方法。溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击镀料表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。 1.整个过程仅进行动量转换,无相变 2.沉积粒子能量大,沉积过程带有清洗作用,薄膜附着性好 3.薄膜密度高,杂质少 4.膜厚可控性、重现性好 5.可制备大面积薄膜 6.设备复杂,沉积速率低。 三. 溅射的物理基础--辉光放电 溅射镀膜基于高能粒子轰击靶材时的溅射效应。整个溅射过程是建立在辉光放电的基础上,使气体放电产生正离子,并被加速后轰击靶材的离子离开靶,沉积成膜的过程。 不同的溅射技术采用不同的辉光放电方式,包括:直流辉光放电 -直流溅射、射频辉光放电-射频溅射 和磁场中的气体放电-磁控溅射。